CX-9800(L)全譜直讀光譜儀
第二代CCD光譜儀技術(shù), 廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制,爐前化驗(yàn),中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)。CX-9800(L)落地式全譜直讀光譜儀體積小、穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運(yùn)行成本低、操作維護(hù)方便,是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。
產(chǎn)品內(nèi)容
CX-9800直讀光譜儀
優(yōu)勢:
優(yōu)勢:
1、第二代CCD全譜光譜儀制造技術(shù)(數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù))、通道不受限制 ;
2、生產(chǎn)真空CCD全譜技術(shù)光譜儀的制造商;
3、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費(fèi)用
4、升級多基體方便,無須變動增加硬件 ;
5、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性,同一樣品不同的時間段分析,可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ;
6、體積小、重量輕, 移動安裝方便 ;
7、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 ;
8、節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%。
主要特點(diǎn):
- 1、可測定包括痕量碳(C),磷(P),硫(S)元素,適用于多種金屬基體,如:鐵基,鋁基,銅基,鎳基,鉻基,鈦 基,鎂基,鋅基,錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素;
- 2、分析速度快捷,20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時間及標(biāo)線,使儀器用最短的時間達(dá)到最優(yōu)的分析效果;
- 3、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室, 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室,實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限,測定結(jié)果準(zhǔn)確,重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性極佳;
- 4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使真空室容積更小,抽真空速度不到普通光譜儀的一半;
- 5、自動光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線,與原存儲線進(jìn)行對比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定;
- 6、開放式的電極架設(shè)計(jì),可以調(diào)整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;
- 7、工作曲線采用國際標(biāo)樣,預(yù)做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍,每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成,自動扣除干擾;
- 8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料 ;
- 9、固態(tài)吸附阱,防止油氣對光室的污染,提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性;
- 10、銅火花臺底座,提高散熱性及堅(jiān)固性能;
- 11、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì),使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短,為用戶節(jié)省氬氣,氬氣消耗不到普通光譜儀的一半;
- 12、采用鎢材料電極,電極使用壽命更長,并設(shè)計(jì)了電極自吹掃功能,清潔電極更加容易;
- 13、高性能DSP及ARM處理器,具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實(shí)時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況;
- 14、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好,外部計(jì)算機(jī)升級與儀器配置無關(guān),使儀器具有更好的適用性;
- 15、核心器件全部原裝進(jìn)口,保證了儀器優(yōu)秀卓越的品質(zhì)。
產(chǎn)品參數(shù)指標(biāo):
光學(xué)系統(tǒng) | |
光學(xué)結(jié)構(gòu) | 帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng) |
光室溫度 | 自動控制恒溫:35℃±0.5℃ |
波長范圍 | 160-800nm |
光柵焦距 | 350 mm |
光柵刻線 | 3600 l/mm |
一級光譜線色散率 | 1.2 nm/mm |
探測器 | 多塊高性能線陣CCD |
平均分辨率 | 10pm/pixel |
激發(fā)臺 | |
氣 體 | 沖氬式 |
氬氣流量 | 激發(fā)時3-5L/min, 待機(jī)時:無須待機(jī)流量 |
電 極 | 鎢材噴射電極技術(shù) |
吹 掃 | 點(diǎn)擊自吹掃功能 |
補(bǔ) 償 | 熱變形自補(bǔ)償設(shè)計(jì) |
分析間隙 | 樣品臺分析間隙:4mm |
激發(fā)光源 | |
類 型 | HEPS數(shù)字化固態(tài)光源 |
頻 率 | 100-1000Hz |
放電電流 | 1-80A |
特殊技術(shù) | 放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì) |
預(yù) 燃 | 高能預(yù)燃技術(shù) |
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng) | |
處理器 | 高端ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理 |
接 口 | 基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸 |
電源與環(huán)境要求 | |
輸 入 | 220VAC 50Hz |
功 率 | 分析時最大700W,待機(jī)狀態(tài)40W |
工作溫度 | 10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h) |
工作濕度 | 20-80% |
尺寸與重量 | |
主機(jī)尺寸 | 800*750*500 mm |
重 量 | 120Kg |
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